等离子镀膜仪是一种表面处理装备，具有广泛的应用领域和重要的功能优势。它主要用于表面涂覆和改性处理。通过将材料暴露在等离子体环境中，利用离子轰击和反应沉积的机制，可实现对材料表面的改性和涂覆。这项技术在各个行业都有广泛的应用，例如电子、光电、医疗、汽车等领域。
磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种常见的表面镀膜设备，是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等，适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜，可镀制磁性材料和非磁性材料。
我国金刚石半导体产业与先进国家相比存在：1、关键设备依赖进口，无自主知识产权，易遭到国外封锁；2、缺乏大尺寸金刚石衬底制备和薄膜外延生长工艺；3、金刚石研磨、键合、减薄技术不成熟等差距。本项目集合高校顶级科研团队和工业界优秀工程师团队，打通产业化所需的高质量金刚石薄膜生长、HFCVD热丝CVD金刚石设备定制、晶圆抛磨键合减薄等研发和生产环节，从工具级、热学级产品切入，并将持续推动光学级、电子级甚至量子级产品研发。
磁控溅射镀膜仪（PVD镀膜设备）是一种先进的表面处理设备，它具有高效的特点。通过利用磁场控制离子束的运动轨迹，实现对材料表面的溅射附着，从而获得高质量的薄膜涂层。磁控溅射镀膜仪的主要作用是在不同材料表面形成均匀、致密且具有良好附着力的薄膜层，以提高材料的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。同时，它也可以用于改变材料的光学性能、电学性能和导热性能等，满足不同领域的需求。
