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配置和指标 1
整体结构 箱式立式，右前开门，内腔尺寸φ900mm×1480mm，内外电解抛光。外壁水冷，预留多法兰接口，主机骨架采用型钢制造，与主泵间设隔板。电器元件安装柜为纵向大板式结构，外观为钣金封装式。 2
系统控制 采用触摸屏和PLC中央控制方式，配合相关电气控制单元对设备真空系统、蒸发源系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，设水、电、气故障自动声光报警和保护系统，可切换手动和自动两种控制模式。 3
真空系统 真空配置干泵、罗茨泵、冷凝泵，整体抽速大气至5×10－6 Torr少于30min，极限真空度2×10－7 Torr，漏率优于5E-5Torr L/S，皮拉尼和电离真空计组合监控真空度。 4
工件架系统 整伞式工件架，转速0-20转每分钟可调节，径向跳动在±2mm。整伞式不锈钢镀膜伞，厚度3mm，可装载6片8英寸基片。 5
烘烤系统 下烘烤方式，碘钨灯加热，温度范围RT-450℃，PID自动控温，温度均匀性RT -450℃±5℃，温控仪控制精度±1℃。 6
电子束蒸发源 最大功率10KW， e型电子枪，配4 x 25cc坩埚一套，坩埚底部驱动器控制，可有线遥控束斑旋转角度和起始位置，插入式挡板，底部气缸驱动，一路电子枪气体备用。 7
等离子体源 自制高输出阴极离子源，最大电流10A，最大电压300V，自动启动和停止，长时间连续稳定工作100小时以上，三路工艺气体。 8
膜厚控制系统 六探头石英晶体膜厚仪和相应控制系统，可系统控制蒸发源蒸发速率、蒸发源挡板、材料充气、电子枪坩埚转动，同时可实现自动真空、自动镀膜工艺。 9
条保需求 设备最大功率约50KW。电子枪独立地线，接地电阻≤4Ω。
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