产品展示
研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。 设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。 可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
查看详情工业级高真空磁控溅射仪是用大尺寸磁控溅射靶进行溅射的方法,用于薄膜陶瓷镀膜工序Cu/Ti微结构,Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力,为微系统集成密度提升提供支撑。适用于镀制各种单层膜、多层 膜、掺杂膜及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。本设备优点:膜层均匀性及重复性高,膜层附着力强,设备依据工艺配方进行可编程自动化控制。
查看详情分子束外延薄膜生长设备(MBE)(分子束外延MBE)该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺,实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。 分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有超高的真空环境,是在理想的环境下进行薄膜外延生长,它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素,得到理想的高精度薄膜。
查看详情PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。
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威斯尼斯人老品牌官网技术(深圳)有限公司
由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。
公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。 公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。 公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。 公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。
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依托哈尔滨工业大学(深圳)完备的实验平台和测试分析平台,为研发和生产提供支撑。
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